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RPT-1200 快速退火炉主要用途:主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CD实验、物质成分测量等场合。既可以用于材料的快速（500℃/S）升降温退火，也可用于化学气相沉积（CVD）法，在镍或铜箔上制备石墨烯的制备， 稍加调整，一机多用。
更新时间：2026-03-10
产品型号：
浏览量：126
HTR-01A快速退火炉系列采用红外辐射加热技术，可实现1-10片样品同时进行，可实现4寸晶圆片吋样品快速升温和降温，同时搭配超高精度温度控制系统，可达到温场均匀性，对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氮化(RTN)、快速热氧化(RTO)及金属合金化等研究和生产起到重要作用。
更新时间：2025-10-11产品型号：浏览量：313
HTR-4立式4寸快速退火炉（芯片热处理设备）广泛应用在IC晶圆、LED晶圆、MEMS、化合物半导体和功率器件等多种芯片产品的生产，和欧姆接触快速合金、离子注入退火、氧化物生长、消除应力和致密化等工艺当中，通过快速热处理以改善晶体结构和光电性能，技术指标高、工艺复杂、专用性强。
更新时间：2025-10-13产品型号：浏览量：240
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